硼靶制备技术

技术原理

含核靶成分的物质通过物理气相沉积或者化学气相沉积方法在衬底上成膜，再经过湿法刻蚀实现膜的剥离，最后捞取在一个金属框架（靶框）上，获得自支撑核靶。

技术意义

 

                                     氢硼反应原理图                                                      自支撑硼膜                                                              硼膜形貌

含有被轰击原子核的实体称为核靶，简称靶。自支撑靶是单纯由核靶材料组成的一层薄膜靶，用一个金属框架（靶框）支撑着，其优点是没有衬底材料的干扰。在低能核物理、激光核物理、原子核化学试验中都需要核靶，核靶制备是这些实验成功与否的关键问题之一，尤其是自支撑靶。 

德赢vwin科技核靶制备能力

德赢vwin科技具有磁控溅射物理气相沉积和化学气相沉积平台制备核靶，能够制备纳米级到微米级自支撑硼核靶，包括纯硼靶、氢硼靶等，已制备了微米级自支撑硼核靶用于氢硼聚变物理验证实验。

技术优势

德赢vwin科技的气相沉积方法制备核靶，加热温度低、制备周期短、核靶质量高、适用范围广。